• 如何成功進行微流控SU-8光刻膠的紫外曝光？為了成功紫外曝光并且根據(jù)所需要的分辨率，光掩模必須盡可能的靠近SU-8光刻膠放置，不要有任何干擾。如要這樣做，可檢查如下幾件事。首先，光掩模和晶圓之間的灰塵...2024-08-23 08:57:36
• 微流控SU-8光刻膠的紫外曝光可使SU-8光刻膠可溶于或不溶于溶劑。良好SU-8 UV曝光的相關參數(shù)紫外曝光過程中光掩模和SU-8之間的接觸為了成功紫外曝光并且根據(jù)所需要的分辨率...2017-12-21 08:58:06
• 環(huán)境保護與加工系統(tǒng)光刻與鍵合設備：制備PDMS或玻璃材質的微米級流道芯片，支持紫外曝光與熱鍵合工藝，精度達±1μm，適用于重金屬、農藥殘留等檢測流道設計。3...2026-06-01 22:06:46
• 食品安全工系統(tǒng)光刻與鍵合設備：用于制備PDMS或玻璃材質的微米級流道芯片，支持紫外曝光與熱鍵合工藝，精度達±1μm。3D打印設備：快速成型復雜結構芯片（如螺...2026-06-01 22:06:46
• 醫(yī)療診斷與加工設備光刻機：用于制備微米級流道結構，如SUSS MA6光刻機支持紫外曝光與掩膜對準，精度達±1μm。軟注塑機：批量復制PDMS芯片，兼容復雜三...2026-06-01 22:06:46
• SU-8光刻膠模具軟烤（光刻膠的第一次烘烤） ；4、 邊緣光刻膠的去除（可選） ；5、 紫外曝光 ；6、 曝光后烘烤（光刻膠的第二次烘烤）；7、 顯影 ；8、 硬烘烤...2026-06-01 22:06:46
• 高深寬比光敏玻璃生產，具有先進的光敏性、均質性。該玻璃一款技術光敏玻璃。該光敏玻璃經過紫外曝光以及熱處理后會析出晶體，這些析晶區(qū)域在酸腐蝕之后可以形成高深寬比的細小...2020-08-21 09:54:51
• ?凝膠澆筑微流控芯片的介紹模板：用光刻法制作微流控芯片結構圖案硅片模板，包括旋涂光刻膠、軟烘焙、紫外曝光、后烘、顯影、堅膜、硅烷化處理步驟。混合PDMS預聚物與聚合劑：將聚二...2025-03-27 10:36:12
• 基于玻璃基底的細胞培養(yǎng)芯片研究（上）0min此時光刻膠厚度為6~7μm。軟烘結束,利用光刻機對玻璃基底進行紫外曝光。曝光后的ITO玻璃用顯影液AZ400K顯影，顯影過程中不斷晃動ITO...2024-12-05 10:22:20
• 低成本微流控芯片的加工與鍵合方法（下）的粘性材料通常是具有紫外固化性質的材料(如SU—8、干膜等)，需要經過紫外曝光實現(xiàn)基底和蓋片材料的鍵合。此外，非紫外固化材料如蠟也可以用來進行簡易的...2024-07-23 09:39:21