高效光刻烘膠利器——WH-HP-02/03多溫區(qū)烘膠臺(tái)

在微納加工與光刻工藝中，烘膠（前烘、中烘、后烘）的溫度一致性及效率直接影響圖形質(zhì)量和重復(fù)性。傳統(tǒng)單溫區(qū)烘膠臺(tái)在面對(duì)多溫度點(diǎn)需求時(shí)，不得不頻繁升降溫，耗時(shí)且易引入誤差。漢頤股份推出的WH-HP-02（7寸） 與WH-HP-03（5寸） 多溫區(qū)烘膠臺(tái)，以創(chuàng)新三溫區(qū)獨(dú)立控制設(shè)計(jì)，重新定義了實(shí)驗(yàn)室烘膠體驗(yàn)。

三大核心優(yōu)勢(shì)

1. 三溫區(qū)獨(dú)立可控，效率倍增
設(shè)備設(shè)有三個(gè)獨(dú)立溫控區(qū)域，可分別設(shè)定不同溫度，同時(shí)或單獨(dú)運(yùn)行。例如，可同時(shí)進(jìn)行前烘（90℃）、中烘（110℃）和后烘（120℃）工藝，無(wú)需等待升降溫切換，單批次處理時(shí)間縮短50%以上，且每個(gè)區(qū)域溫度互不干擾，保證工藝一致性。

2. PID精準(zhǔn)溫控，重復(fù)性?xún)?yōu)異
采用PID閉環(huán)控溫系統(tǒng)，控溫精度達(dá)±1℃，溫度均勻性＜±5%。升溫速度快，長(zhǎng)時(shí)間持續(xù)工作穩(wěn)定性高。觸摸屏界面支持分段式程控升溫曲線(xiàn)設(shè)定，輕松實(shí)現(xiàn)復(fù)雜烘焙程序。

3. 適配主流旋涂?jī)x，一站式薄膜制備
WH-HP系列熱板與KW-4A、WH-SC-01旋涂機(jī)完美兼容，是制備金屬氧化物薄膜、聚合物涂層、金屬有機(jī)薄膜的理想組合。與傳統(tǒng)烘箱相比，熱板從下向上均勻加熱，避免“表皮效應(yīng)”，烘烤時(shí)間縮短數(shù)倍，膜層更致密均勻。

技術(shù)規(guī)格速覽

兩款設(shè)備均采用AC220V供電，觸屏操作，內(nèi)置PID算法，可持續(xù)穩(wěn)定工作。緊湊設(shè)計(jì)節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間，是科研院所、半導(dǎo)體工廠(chǎng)、高校光刻實(shí)驗(yàn)室的得力助手。

典型應(yīng)用場(chǎng)景

• 光刻膠前烘、后烘、硬烘烤

• 溶膠-凝膠薄膜熱處理

• 聚合物涂層固化

• 有機(jī)金屬薄膜退火

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注：產(chǎn)品數(shù)據(jù)來(lái)源于漢頤股份公開(kāi)資料，選型及使用請(qǐng)結(jié)合實(shí)際工藝要求。