• 新型多觸發極紫外光刻膠材料制使得圖形邊緣處的化學梯度增加，同時減小酸的擴散。圖1 （a）應用于極紫外光刻的傳統化學放大膠的機理；（b）高劑量區域的多觸發機制；（c）低劑量區域...2017-08-17 11:54:14
• 中國科學院光電技術研究所研制出實用深紫外光刻機學院光電技術研究所微電子專用設備研發團隊研制成功波長254nm的實用深紫外光刻機（Mask aligner），光刻分辨力達到500nm?！　」饪虣C因...2017-07-28 16:03:16
• 紫外光刻機的工作條件 ?????? 紫外線光刻機是 印制板制造工藝中的重要設備。傳統光刻機的玻璃-邁拉曬架在生產過程中需要人工趕氣,邁拉膜需要經常更換。由于冷卻系統過...2015-01-30 16:02:14
• 掩膜板的制造和管理Electro Mechanical Systems，微機電系統）等。紫外光刻機、步進式光刻機等光刻設備上都需要使用掩膜版。掩膜板的掩蔽層一般為鉻（...2024-08-01 10:02:30
• 光刻膠的圖形反轉圖形反轉膠是比較常見的一種紫外光刻膠，它既可以當正膠使用又可以作為負膠使用。相比而言，負膠工藝更被人們所熟知。本文重點介紹其負膠工藝。應用領域在反轉工藝下，通過適當的工藝參數...2024-07-09 09:32:09
• 光刻膠的保存和老化失效膠由于對紫外波段不感光，有可能直接使用白色塑料瓶包裝），冷藏保存，并且紫外光刻膠只能在黃光（λ> 500 nm）下進行處理。通常一款光刻膠的失效日期...2024-07-08 10:08:57
• 光刻膠烘烤過程及對顯影的影響正電阻部分分解或引起負電阻樹脂的熱交聯。除技術文件中有特殊要求外，通常紫外光刻膠薄膠的烘烤溫度為100℃并烘烤1分鐘，可針對部分光刻膠進一步優化參數...2024-06-21 09:52:46
• 國內外光刻膠發展及應用探討的先驅，隨后經過數百年的發展，光刻膠的精度也越來越高。有G線和I線傳統紫外光刻膠、深紫外光刻膠（248nm和193nm）和極紫外光刻膠（EUV，13...2024-05-10 09:47:04
• 微流控芯片制備加工方法為常見的微流控芯片制備加工方法有：① 絲網印刷 ?② 噴墨打印 ?③ 紫外光刻（Ultra-Violet，UV）技術 ?④ 電子束直寫（Electr...2024-03-05 10:20:27
• 基于流動聚焦微流控芯片的液晶微滴制備及傳感響應分析了微滴尺寸對檢測性能的影響。實驗儀器與試劑URE-2000 / 25 紫外光刻機；微注射泵；數顯鼓風干燥箱；等離子清洗儀；真空干燥箱；水浴鍋；電子天...2023-12-29 11:00:24