• SU-8光刻膠模具使用的模板一定是環氧樹脂SU-8模具。汶顥股份利用光刻技術在涂覆SU-8光刻膠的硅片上制備深寬比高的微結構與微零件，可制作厚度在10-500μ，具有一...2026-06-01 16:53:26
• Microchem SU-8光刻膠 2000系列SU 8光刻膠系列產品簡介新型的化學增幅型負像 SU- 8?膠是一種負性、環氧樹脂型、近紫外線光刻膠，克服了普通光刻膠采用 UV光刻導致的深寬比不足的問題，十...2024-03-28 10:07:48
• 2026年光刻膠市場格局分析，選型參考！隨著2026年全球半導體市場回暖，光刻膠作為“電子工業皇冠上的明珠”，其技術路線與供應鏈格局正在發生深刻變革。從EUV光刻膠的突破到KrF、ArF的國產化替代，行業熱點層出不窮。然而，...2026-04-09 11:20:48
• 光刻膠勻膠過程氣泡產生的原因分析很多實驗者在使用勻膠機進行光刻膠勻膠過程中有氣泡產生，嚴重影響了實驗效果，那么勻膠過程中為什么會產品氣泡呢？有哪些方法可以減少氣泡的產生？如果氣泡產生了有什么好的辦法消除氣泡嗎...2025-07-28 10:46:08
• 光刻膠產業國內發展現狀如果說最終制造出來的芯片是一道美食，那么光刻膠就是最初的重要原材料之一，而且是那種看起來可能不起眼，但卻能決定一道菜味道的關鍵輔料。光刻膠（photoresist），在業內又被稱為光阻或光阻...2025-06-04 09:07:49
• 晶圓表面光刻膠的涂覆與刮邊工藝的研究制造技術也得到了快速發展。其中，光刻技術在晶圓制造過程中的地位尤為重要。光刻膠是光刻工藝中必不可少的材料，其質量直接影響到晶圓生產的效率和質量。本文將...2025-01-03 09:43:30
• 微流控硅片在顯影后上有大量的光刻膠殘留是什么原因呢？微流控顯影后硅片上有大量的光刻膠殘留可能是由于多種因素造成的。以下是可能導致這種情況的一些原因和解決方法：可能的原因顯影液不足：顯影液的量不足可能導致顯影不完全，從而留下光刻膠...2024-10-31 08:52:04
• su8 光刻膠使用方法及注意事項使用方法基底準備在使用SU-8光刻膠之前，基板應保持清潔和干燥.清潔基板的方法包括使用硫酸和過氧化氫的混合液（piranha etch）進行濕法清洗，隨后用去離子水沖洗.可選地，也...2024-09-27 09:37:13
• 掩膜版與光刻膠的功能和作用?掩膜版與光刻膠在芯片制造過程中扮演著不可或缺的角色，它們的功能和作用各有側重，但共同促進了芯片的精確制造。?掩膜版?，也稱為光罩、光掩膜或光刻掩膜版，是微電子...2024-09-06 09:57:07
• 如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠？在微流控PDMS芯片加工的過程中，需要使用烘膠臺或者烤膠機對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3次。本文簡要介紹SU-8光刻膠烘烤的注意事項。微流控SU-8光刻膠烘烤：軟烘、后...2024-08-27 09:13:59